logo
Bom preço  on-line

Detalhes dos produtos

Created with Pixso. Casa Created with Pixso. produtos Created with Pixso.
Bolacha do carboneto de silicone
Created with Pixso.

Substrato de SiC Carbono de Silício Substrato 4H/6H-P 3C-N 5×5 10×10mm P Grau R Grau D Grau

Substrato de SiC Carbono de Silício Substrato 4H/6H-P 3C-N 5×5 10×10mm P Grau R Grau D Grau

Nome da marca: ZMSH
Informações detalhadas
Lugar de origem:
China
Diâmetro:
5 × 5 mm ± 0,2 mm 10 × 10 mm ± 0,2 mm
Espessura:
350 umt25 um
Orientação da bolacha:
Fora do eixo: 2,0°-4,0° para a direção [1120]+0,5° para 4H/6H-P, no eixo: ((111) + 0,5° para 3C-N
Densidade de Micropipe:
0 cm-2
Resistividade 4H/6H-P:
< 0,02 cm
Resistência 3C-N:
< 0,8 mQ.cm
Comprimento liso preliminar:
150,9 mm +1,7 mm
Comprimento liso secundário:
80,0 mm +1,7 mm
Destacar:

Substrato de SiC de 10 × 10 mm

,

4H/6H-P SiC Substrato

,

Substrato de SiC 3C-N

Descrição do produto

Substrato de SiC Substrato de carburo de silício Substrato 4H/6H-P 3C-N 5×5 10×10mm P grau R grau D grau

4H/6H-P SiC Substrato 5×5 10×10mm de abstração

O substrato de carburo de silício (SiC) 4H/6H-P, com dimensões de 5×5 mm e 10×10 mm, representa um avanço fundamental nos materiais semicondutores,especialmente para aplicações de alta potência e de alta temperaturaO SiC, um semicondutor de banda larga, apresenta uma condutividade térmica excepcional, uma elevada força de campo elétrico de quebra e propriedades mecânicas robustas.tornando-a uma escolha preferencial para a próxima geração de dispositivos eletrônicos de potência e optoeletrônicosEste estudo explora as técnicas de fabrico empregadas para obter substratos de SiC 4H/6H-P de alta qualidade, abordando desafios comuns como a minimização de defeitos e a uniformidade da wafer.O artigo destaca as aplicações do substrato em dispositivos de energia, dispositivos de RF e outras aplicações de alta frequência, enfatizando o seu potencial para revolucionar a indústria de semicondutores.Os resultados sugerem que estes substratos de SiC desempenharão um papel crucial no desenvolvimento de dispositivos eletrónicos mais eficientes e fiáveis, permitindo avanços no desempenho e na eficiência energética.

Substrato de SiC Carbono de Silício Substrato 4H/6H-P 3C-N 5×5 10×10mm P Grau R Grau D Grau 0

4H/6H-P SiC Substrato 5×5 Propriedades de 10×10mm

 

O substrato 4H/6H-P SiC (Carbido de Silício), em especial nas dimensões de 5 × 5 mm e 10 × 10 mm,apresenta várias propriedades notáveis que o tornam uma escolha preferida em aplicações de semicondutores de alto desempenho:

  1. Ampla banda:A banda larga do SiC (aproximadamente 3,26 eV para 4H e 3,02 eV para 6H) permite a operação a altas temperaturas e tensões, o que é benéfico para a eletrônica de potência.

  2. Alta condutividade térmica:O SiC tem excelente condutividade térmica, cerca de 3,7 W/cm·K, o que ajuda na dissipação eficiente de calor, tornando-o adequado para dispositivos de alta potência.

  3. Campo elétrico de alta degradação:O SiC pode suportar campos elétricos elevados (até 3 MV/cm), tornando-o ideal para dispositivos de energia que exigem capacidades de manuseio de alta tensão.

  4. Resistência mecânica:O SiC é conhecido por sua robustez mecânica, oferecendo alta resistência ao desgaste, o que é crítico para dispositivos que operam em condições extremas.

  5. Estabilidade química:O SiC é quimicamente estável, resistente à oxidação e à corrosão, tornando-o adequado para ambientes adversos, incluindo aplicações aeroespaciais e automotivas.

Estas propriedades permitem que os substratos 4H/6H-P SiC sejam utilizados numa ampla gama de aplicações, incluindo transistores de alta potência, dispositivos de RF e optoeletrónica,onde o desempenho e a fiabilidade são cruciais.

Substrato de SiC Carbono de Silício Substrato 4H/6H-P 3C-N 5×5 10×10mm P Grau R Grau D Grau 1

4H/6H-P SiC Substrato 5×5 Imagem de 10×10 mm

Substrato de SiC Carbono de Silício Substrato 4H/6H-P 3C-N 5×5 10×10mm P Grau R Grau D Grau 2Substrato de SiC Carbono de Silício Substrato 4H/6H-P 3C-N 5×5 10×10mm P Grau R Grau D Grau 3Substrato de SiC Carbono de Silício Substrato 4H/6H-P 3C-N 5×5 10×10mm P Grau R Grau D Grau 4

4H/6H-P SiC Substrato 5×5 10×10mm aplicações

O substrato 4H/6H-P SiC (Carbido de Silício), particularmente nos tamanhos de 5 × 5 mm e 10 × 10 mm, é utilizado em várias aplicações de alto desempenho e exigentes em várias indústrias:

  1. Eletrónica de Potência:Os substratos de SiC são amplamente utilizados em dispositivos de energia como MOSFETs, IGBTs e diodos Schottky, que são essenciais em veículos elétricos, sistemas de energia renovável e redes de energia.A largura de banda e a alta tensão de ruptura do SiC permitem uma conversão e operação eficientes de energia sob altas tensões e temperaturas.

  2. Dispositivos de RF e microondas:O SiC é um excelente material para dispositivos de RF e microondas usados em telecomunicações, sistemas de radar e comunicação por satélite.Sua capacidade de operar em altas frequências e temperaturas com baixa perda de sinal torna-o adequado para amplificadores e interruptores de alta potência.

  3. Optoeletrónica:Os substratos de SiC são utilizados em LEDs e diodos a laser, em especial nas faixas de comprimento de onda UV e azul.e monitorização ambiental.

  4. Aeronáutica e Automóveis:Devido à sua estabilidade térmica e resistência a ambientes adversos, o SiC é usado em sensores aeroespaciais e automotivos, atuadores e módulos de potência, onde a confiabilidade em condições extremas é crucial.

Essas aplicações destacam a importância dos substratos de SiC 4H/6H-P no avanço das tecnologias que exigem eficiência, durabilidade e operação de alto desempenho.

Substrato de SiC Carbono de Silício Substrato 4H/6H-P 3C-N 5×5 10×10mm P Grau R Grau D Grau 5

Perguntas e respostas

O que é 4H em 4H-SiC?

 

4H-SiC e 6H-SiC representamestruturas de cristal hexagonais, com "H" indicando a simetria hexagonal e os números 4 e 6 as camadas nas suas células unitárias.que é um determinante chave do desempenho de um dispositivo semicondutor.