Substrato de SiC Carbono de Silício Substrato 4H/6H-P 3C-N 5×5 10×10mm P Grau R Grau D Grau
Detalhes do produto:
Lugar de origem: | China |
Marca: | ZMSH |
Informação detalhada |
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Diâmetro: | 5 × 5 mm ± 0,2 mm 10 × 10 mm ± 0,2 mm | Espessura: | 350 umt25 um |
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Orientação da bolacha: | Fora do eixo: 2,0°-4,0° para a direção [1120]+0,5° para 4H/6H-P, no eixo: ((111) + 0,5° para 3C-N | Densidade de Micropipe: | 0 cm-2 |
Resistividade 4H/6H-P: | < 0,02 cm | Resistência 3C-N: | < 0,8 mQ.cm |
Comprimento liso preliminar: | 150,9 mm +1,7 mm | Comprimento liso secundário: | 80,0 mm +1,7 mm |
Destacar: | Substrato de SiC de 10 × 10 mm,4H/6H-P SiC Substrato,Substrato de SiC 3C-N |
Descrição de produto
Substrato de SiC Substrato de carburo de silício Substrato 4H/6H-P 3C-N 5×5 10×10mm P grau R grau D grau
4H/6H-P SiC Substrato 5×5 10×10mm de abstração
O substrato de carburo de silício (SiC) 4H/6H-P, com dimensões de 5×5 mm e 10×10 mm, representa um avanço fundamental nos materiais semicondutores,especialmente para aplicações de alta potência e de alta temperaturaO SiC, um semicondutor de banda larga, apresenta uma condutividade térmica excepcional, uma elevada força de campo elétrico de quebra e propriedades mecânicas robustas.tornando-a uma escolha preferencial para a próxima geração de dispositivos eletrônicos de potência e optoeletrônicosEste estudo explora as técnicas de fabrico empregadas para obter substratos de SiC 4H/6H-P de alta qualidade, abordando desafios comuns como a minimização de defeitos e a uniformidade da wafer.O artigo destaca as aplicações do substrato em dispositivos de energia, dispositivos de RF e outras aplicações de alta frequência, enfatizando o seu potencial para revolucionar a indústria de semicondutores.Os resultados sugerem que estes substratos de SiC desempenharão um papel crucial no desenvolvimento de dispositivos eletrónicos mais eficientes e fiáveis, permitindo avanços no desempenho e na eficiência energética.
4H/6H-P SiC Substrato 5×5 Propriedades de 10×10mm
O substrato 4H/6H-P SiC (Carbido de Silício), em especial nas dimensões de 5 × 5 mm e 10 × 10 mm,apresenta várias propriedades notáveis que o tornam uma escolha preferida em aplicações de semicondutores de alto desempenho:
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Ampla banda:A banda larga do SiC (aproximadamente 3,26 eV para 4H e 3,02 eV para 6H) permite a operação a altas temperaturas e tensões, o que é benéfico para a eletrônica de potência.
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Alta condutividade térmica:O SiC tem excelente condutividade térmica, cerca de 3,7 W/cm·K, o que ajuda na dissipação eficiente de calor, tornando-o adequado para dispositivos de alta potência.
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Campo elétrico de alta degradação:O SiC pode suportar campos elétricos elevados (até 3 MV/cm), tornando-o ideal para dispositivos de energia que exigem capacidades de manuseio de alta tensão.
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Resistência mecânica:O SiC é conhecido por sua robustez mecânica, oferecendo alta resistência ao desgaste, o que é crítico para dispositivos que operam em condições extremas.
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Estabilidade química:O SiC é quimicamente estável, resistente à oxidação e à corrosão, tornando-o adequado para ambientes adversos, incluindo aplicações aeroespaciais e automotivas.
Estas propriedades permitem que os substratos 4H/6H-P SiC sejam utilizados numa ampla gama de aplicações, incluindo transistores de alta potência, dispositivos de RF e optoeletrónica,onde o desempenho e a fiabilidade são cruciais.
4H/6H-P SiC Substrato 5×5 Imagem de 10×10 mm
4H/6H-P SiC Substrato 5×5 10×10mm aplicações
O substrato 4H/6H-P SiC (Carbido de Silício), particularmente nos tamanhos de 5 × 5 mm e 10 × 10 mm, é utilizado em várias aplicações de alto desempenho e exigentes em várias indústrias:
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Eletrónica de Potência:Os substratos de SiC são amplamente utilizados em dispositivos de energia como MOSFETs, IGBTs e diodos Schottky, que são essenciais em veículos elétricos, sistemas de energia renovável e redes de energia.A largura de banda e a alta tensão de ruptura do SiC permitem uma conversão e operação eficientes de energia sob altas tensões e temperaturas.
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Dispositivos de RF e microondas:O SiC é um excelente material para dispositivos de RF e microondas usados em telecomunicações, sistemas de radar e comunicação por satélite.Sua capacidade de operar em altas frequências e temperaturas com baixa perda de sinal torna-o adequado para amplificadores e interruptores de alta potência.
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Optoeletrónica:Os substratos de SiC são utilizados em LEDs e diodos a laser, em especial nas faixas de comprimento de onda UV e azul.e monitorização ambiental.
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Aeronáutica e Automóveis:Devido à sua estabilidade térmica e resistência a ambientes adversos, o SiC é usado em sensores aeroespaciais e automotivos, atuadores e módulos de potência, onde a confiabilidade em condições extremas é crucial.
Essas aplicações destacam a importância dos substratos de SiC 4H/6H-P no avanço das tecnologias que exigem eficiência, durabilidade e operação de alto desempenho.
Perguntas e respostas
O que é 4H em 4H-SiC?
4H-SiC e 6H-SiC representamestruturas de cristal hexagonais, com "H" indicando a simetria hexagonal e os números 4 e 6 as camadas nas suas células unitárias.que é um determinante chave do desempenho de um dispositivo semicondutor.