Nome da marca: | ZMSH |
Número do modelo: | Wafer sic |
Condições de pagamento: | T/T |
Substrato de SiC 4H/6H-P 3C-N 45,5 mm~150,0 mm Z Grau P Grau D Grau
Este estudo explora as propriedades estruturais e eletrónicas de substratos de carburo de silício (SiC) de politipo 4H/6H integrados com películas de SiC 3C-N cultivadas epitaxialmente.A transição politípica entre 4H/6H-SiC e 3C-N-SiC oferece oportunidades únicas para melhorar o desempenho dos dispositivos semicondutores baseados em SiCAtravés da deposição de vapor químico a alta temperatura (CVD), filmes 3C-SiC são depositados em substratos 4H/6H-SiC, com o objetivo de reduzir a incompatibilidade da rede e as densidades de deslocamento.Análise pormenorizada com difração de raios-X (XRD), microscopia de força atómica (AFM) e microscopia de elétrons de transmissão (TEM) revela o alinhamento epitaxial e morfologia da superfície dos filmes.As medições elétricas indicam uma melhoria da mobilidade do portador e da tensão de ruptura, tornando esta configuração de substrato promissora para aplicações eletrónicas de alta potência e alta frequência da próxima geração.O estudo sublinha a importância da otimização das condições de crescimento para minimizar os defeitos e melhorar a coerência estrutural entre os diferentes politipos de SiC.
Os substratos de carburo de silício (SiC) de politipo 4H/6H (P) com filmes de SiC 3C-N (dopados com nitrogénio) apresentam uma combinação de propriedades que são benéficas para vários tipos de alta potência, alta frequência,e aplicações de alta temperaturaEstas são as principais propriedades destes materiais:
Essas propriedades tornam a combinação de 4H/6H-P e 3C-N SiC um substrato versátil para uma ampla gama de aplicações eletrônicas, optoeletrônicas e de alta temperatura avançadas.
A combinação de substratos 4H/6H-P e 3C-N SiC tem uma gama de aplicações em várias indústrias, particularmente em dispositivos de alta potência, alta temperatura e alta frequência.Abaixo estão algumas das principais aplicações:
Essas aplicações destacam a versatilidade e a importância dos substratos 4H/6H-P 3C-N SiC no avanço da tecnologia moderna em uma série de indústrias.
Qual é a diferença entre 4H-SiC e 6H-SiC?
Em resumo, ao escolher entre 4H-SiC e 6H-SiC: opte por 4H-SiC para eletrônicos de alta potência e alta frequência onde a gestão térmica é crítica.Escolher 6H-SiC para aplicações que priorizem a emissão de luz e a durabilidade mecânica, incluindo LEDs e componentes mecânicos.
Palavras-chave: Wafer de carburo de silício