| Nome da marca: | ZMSH |
SIC substrato quadrado 5×5 10×10 350um Fora do eixo: 2,0°-4,0° para a direita Grau de produção
Os substratos quadrados de carburo de silício (SiC) são materiais críticos em dispositivos de semicondutores avançados, particularmente em aplicações de alta potência e alta frequência.alta tensão de ruptura, e largos intervalos de banda tornam-no uma escolha ideal para a próxima geração de eletrônicos de potência, especialmente em ambientes adversos.A forma quadrada destes substratos facilita a sua utilização eficiente na fabricação de dispositivos e garante a compatibilidade com vários equipamentos de processamentoAlém disso, os substratos de SiC com ângulos fora do eixo variando de 2,0° a 4,0° são amplamente utilizados para melhorar a qualidade da camada epitaxial, reduzindo defeitos como micropipes e deslocamentos.Estes substratos também desempenham um papel fundamental no desenvolvimento de diodos de alto desempenho, transistores e outros componentes eletrónicos, onde a elevada eficiência e fiabilidade são primordiais.Os substratos quadrados de SiC oferecem soluções promissoras em sectores como os veículos elétricosA investigação em curso concentra-se na otimização da produção de substratos de SiC para reduzir custos e melhorar o desempenho do material.Este resumo descreve a importância dos substratos quadrados de SiC e destaca o seu papel no avanço das tecnologias modernas de semicondutores.
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As propriedades de um substrato quadrado de carburo de silício (SiC) são críticas para seu desempenho em aplicações de semicondutores.
Largo intervalo de banda (3,26 eV): O SiC tem uma banda muito mais larga do que o silício, permitindo que ele opere a temperaturas, voltagens e frequências mais elevadas sem degradar o desempenho.
Alta condutividade térmica (3,7 W/cm·K): A excelente condutividade térmica do SiC permite uma efetiva dissipação de calor, tornando-o ideal para aplicações de alta potência.
Campo elétrico de alta degradação (3 MV/cm): O SiC pode suportar campos elétricos mais elevados do que o silício, o que é crucial para dispositivos de alta tensão, reduzindo o risco de avaria e melhorando a eficiência.
Alta mobilidade dos elétrons (950 cm2/V·s): Embora ligeiramente inferior ao silício, o SiC ainda oferece boa mobilidade eletrônica, permitindo velocidades de comutação mais rápidas em dispositivos eletrônicos.
Dureza mecânica: O SiC é um material extremamente duro com uma dureza de Mohs de cerca de 9.5, tornando-o altamente resistente ao desgaste e capaz de manter a integridade estrutural em condições extremas.
Estabilidade química: O SiC é quimicamente inerte, resistente à oxidação e à corrosão, tornando-o adequado para condições químicas e ambientais adversas.
Ângulo fora do eixo: Muitos substratos de SiC têm um corte fora do eixo (por exemplo, 2,0°-4,0°) para melhorar o crescimento da camada epitaxial, reduzindo defeitos como micropipes e deslocamentos na estrutura cristalina.
Baixa densidade de defeitos: Os substratos de SiC de alta qualidade têm uma baixa densidade de defeitos cristalinos, melhorando o desempenho e a fiabilidade dos dispositivos eletrónicos.
Essas propriedades tornam os substratos quadrados de SiC ideais para aplicações em eletrônica de potência, veículos elétricos, telecomunicações e sistemas de energia renovável,onde a elevada eficiência e durabilidade são essenciais.
| Os principais parâmetros de desempenho | |
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Nome do produto
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Substrato de carburo de silício, wafer de carburo de silício, wafer de SiC, substrato de SiC
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Método de crescimento
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MOCVD
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Estrutura cristalina
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6H, 4H
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Parâmetros da malha
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6H ((a=3,073 Å c=15,117 Å),
4H ((a=3,076 Å c=10,053 Å) |
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Sequência de empilhamento
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6H: ABCACB,
4H: ABCB |
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Grau
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Grau de produção, grau de investigação, grau de simulação
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Tipo de condutividade
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Tipo N ou semi-isolante |
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Fenda de banda
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3.23 eV
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Dureza
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9.2 (Mohs)
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Conductividade térmica @300K
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3.2~4.9 W/cm.K
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Constantes dielétricas
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e(11)=e(22)=9.66 e(33)=10.33
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Resistividade
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4H-SiC-N: 0,015 a 0,028 Ω·cm, 6H-SiC-N: 0,02 a 0,1 Ω·cm, 4H/6H-SiC-SI: > 1E7 Ω·cm |
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Embalagem
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Saco limpo de classe 100, sala limpa de classe 1000
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Os substratos quadrados de carburo de silício (SiC) encontraram aplicações reais em várias indústrias de alta tecnologia, principalmente devido às suas excecionais propriedades térmicas, elétricas e mecânicas.Algumas das principais aplicações incluem::
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Essas aplicações demonstram a versatilidade e o impacto dos substratos quadrados de SiC na criação de soluções de alto desempenho e eficiência energética em diversas indústrias.
P: O que são substratos de SiC?
A:Os wafers e substratos de carburo de silício (SiC) são:Materiais especializados utilizados na tecnologia de semicondutores feitos de carburo de silício, um composto conhecido por sua alta condutividade térmica, excelente resistência mecânica e ampla faixa.