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Detalhes dos produtos

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Bolacha do carboneto de silicone
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Wafer SiC 4H N Tipo 8 polegadas Grau de produção Grau Dummy personalizado Wafer de carburo de silício polido de dois lados

Wafer SiC 4H N Tipo 8 polegadas Grau de produção Grau Dummy personalizado Wafer de carburo de silício polido de dois lados

Nome da marca: ZMSH
Número do modelo: Bolacha do carboneto de silicone
Condições de pagamento: T/T
Informações detalhadas
Lugar de origem:
China
Parâmetro:
N-TYPE
Polytype:
4H
Espessura:
500.0μm±25.0μm
categorias:
Prime, Dummy, Recherch
Diâmetro:
200.0 mm +0 mm/-0,5 mm
Orientação do entalhe:
<1-100>±1°
Superfície rugosa ((10μm × 10μm):
Si Face Ra≤0,2 nm;C Face Ra≤0,5 nm
Contaminação de Superfície Metálica:
(Al, Cr, Fe, Ni, Cu, Zn, Pb, Na, K, Ti, Ca, V, Mn) ≤ 1E11cm-2
Destacar:

Wafer SiC de 8 polegadas de diâmetro

,

LTV TTV BOW Warp Wafer SiC

,

Wafer de SiC de grau P

Descrição do produto

 

Wafer SiC 4H N Tipo 8 polegadas Grau de produção Grau Dummy personalizado Wafer de carburo de silício polido de dois lados

Descrição da Wafer SiC:
O Wafer SiC é um material semicondutor que possui excelentes propriedades elétricas e térmicas.Além da sua elevada resistência térmicaEm comparação com outros semicondutores, uma bolacha de carburo de silício é ideal para uma ampla gama de aplicações de potência e tensão.Isto significa que é adequado para uma variedade de dispositivos elétricos e ópticos.O Wafer SiC é o material semicondutor mais popular disponível.A bolacha de carburo de silício é um material muito útil para vários tipos de dispositivos eletrônicosOferecemos uma variedade de wafers e substratos de SiC de alta qualidade. Estes estão disponíveis em formas de tipo n e semi-isolação.

O Caráter da Wafer SiC:

1Alta Energia de Bandgap
2. Alta condutividade térmica
3. Alta dureza
4Boa estabilidade química

A forma da Wafer SiC:

Imóveis Grau P Grau D
Forma cristalina 4H
Politipo Nenhum Permitido Área ≤ 5%
(MPD) a ≤ 1/cm2 ≤ 5/cm2
Placas hexadecimais Nenhum Permitido Área ≤ 5%
Inclusões a Área ≤ 0,05% N/A
Resistividade 0.015Ω•cm 0.028Ω•cm 0.014Ω•cm 0.028Ω•cm
(EPD) a ≤ 8000/cm2 N/A
(TED) a ≤ 6000/cm2 N/A
(BPD) a ≤ 2000/cm2 N/A
(TDS) a ≤ 1000/cm2 N/A
Falha de empilhamento ≤ 1% Área N/A
Orientação do entalhe < 1-100> ± 1°
Ângulo de entalhe 90° +5°/-1°
Profundidade do entalhe 10,00 mm + 0,25 mm/-0 mm
Desorientação ortogonal ± 5,0°
Revestimento de superfície C-Face: Optical Polish, Si-Face: CMP
Borda da bolacha Fundição
Superfície rugosa ((10μm × 10μm) Si Face Ra≤0,2 nm;C Face Ra≤0,5 nm
LTV ((10 mm × 10 mm) a ≤ 3 μm ≤ 5 μm
(TTV) a ≤ 10 μm ≤ 10 μm
(BOW) a ≤ 25 μm ≤ 40 μm
(Warp) a ≤ 40 μm ≤ 80 μm

 

A foto física da SiC Wafer:

Wafer SiC 4H N Tipo 8 polegadas Grau de produção Grau Dummy personalizado Wafer de carburo de silício polido de dois lados 0

 

 

Aplicação da Wafer SiC:

1Dispositivos de alimentação:

As wafers de SiC são amplamente usadas na fabricação de dispositivos eletrônicos de potência, como MOSFETs de potência (Transistores de Efeito de Campo de Óxido Metálico-Semicondutores), diodos Schottky e módulos integrados de potência.Devido às vantagens da elevada condutividade térmica, alta tensão de ruptura e alta mobilidade eletrônica do SiC, estes dispositivos podem alcançar uma conversão de potência eficiente e de alto desempenho em alta temperatura, alta tensão,e ambientes de alta frequência.

2. Dispositivos optoelectrónicos:

As placas de SiC desempenham um papel crucial em dispositivos optoeletrônicos, sendo usadas para fabricar fotodetectores, diodos laser, fontes UV, entre outros.As propriedades ópticas e eletrônicas superiores do carburo de silício tornam-no um material preferido, especialmente excelentes em aplicações que exigem altas temperaturas, frequências e níveis de potência.

3Dispositivos de radiofrequência (RF):

As placas de SiC também são utilizadas na fabricação de dispositivos de RF, tais como amplificadores de potência de RF, interruptores de alta frequência, sensores de RF, e mais.e perdas mais baixas de SiC tornam-no uma escolha ideal para aplicações de RF como comunicação sem fio e sistemas de radar.

4Eletrónica de alta temperatura:

Devido à sua elevada estabilidade térmica e resistência à temperatura, as placas de SiC são utilizadas na produção de eletrónica concebida para funcionar em ambientes de alta temperatura,Incluindo a eletrónica de potência de alta temperatura, sensores e controladores.

 

Imagem de aplicação da Wafer SiC:

Wafer SiC 4H N Tipo 8 polegadas Grau de produção Grau Dummy personalizado Wafer de carburo de silício polido de dois lados 1

 

 

Perguntas e Respostas:

1P:- O que é?Significadode wafers de carburo de silício de alta qualidade?

R: Este é um passo crucial para permitir a produção em larga escala de dispositivos de carburo de silício, satisfazendo a demanda da indústria de semicondutores por dispositivos de alto desempenho e altamente confiáveis.

2P: Como são utilizadas as wafers de carburo de silício em aplicações específicas de semicondutores, como eletrônica de potência e optoeletrônica?

R: As bolhas de carburo de silício são utilizadas em eletrônica de potência para dispositivos como MOSFETs de potência, diodos Schottky,e módulos de potência devido à sua elevada condutividade térmica e capacidade de manipulação de tensãoNa optoeletrônica, as placas de SiC são utilizadas para fotodetectores, diodos laser e fontes UV devido ao seu amplo intervalo de banda e estabilidade a altas temperaturas,que permitam dispositivos optoeletrônicos de alto desempenho.

3Q: Que vantagens oferece o carburo de silício (SiC) em relação às wafers de silício tradicionais em aplicações de semicondutores?

R: O carburo de silício oferece várias vantagens em relação às wafers de silício tradicionais, incluindo maior tensão de quebra, maior condutividade térmica, maior distância de banda e maior estabilidade de temperatura.Estas propriedades tornam as placas de SiC ideais para alta potência, aplicações de alta frequência e de alta temperatura onde as wafers de silício tradicionais podem não funcionar de forma ideal.

 

Recomendação do produto:

Wafers SIC de alta pureza 4H-Semi Prime Grade Semicondutor EPI Substrato

Wafer SiC 4H N Tipo 8 polegadas Grau de produção Grau Dummy personalizado Wafer de carburo de silício polido de dois lados 2