Plano C (0001), Plano A (11-20), Plano R (1-102) ou Personalizado
Formato do substrato:
Redondo, Quadrado, Retângulo ou Personalizado
Processo de Metalização:
Sputtering, evaporação ou outros processos qualificados
Camada de adesão:
Ti, Cr ou outros materiais especificados
Camada de Barreira:
Ni, Pt ou outros materiais, dependendo do projeto
Habilidade da fonte:
Por caso
Destacar:
Metallized sapphire substrates for RF devices
,
Microwave microelectronic sapphire substrates
,
Sapphire substrates with metallized coating
Descrição do produto
Product Overview Metallized sapphire substrates are functional substrate materials manufactured by depositing metallic thin films onto high-purity single-crystal sapphire (Al₂O₃). By combining the excellent electrical insulation, high hardness, chemical stability, and thermal stability of sapphire with the functional properties of metal films, these substrates provide a versatile solution for advanced electronic devices, RF components, optoelectronic systems, and semiconducto