Introdução ao produto

As bolinhas gravadas em safira são fabricadas utilizando substratos de safira de cristal único (Al2O3) de alta pureza, processados através de fotolitografia avançada combinada comTecnologias de gravação em seco e de gravação em húmidoOs produtos apresentam padrões microestruturados altamente uniformes, excelente precisão dimensional e destacada estabilidade física e química.que os tornem adequados para aplicações de alta fiabilidade em microeletrónica, optoeletrónica, embalagens de semicondutores e campos de investigação avançada.

Sapphire é bem conhecido por sua dureza excepcional e estabilidade estrutural, com uma dureza de Mohs de 9, em segundo lugar apenas para o diamante.podem formar-se microestruturas bem definidas e repetíveis na superfície de safira, garantindo bordas de padrão nítidas, geometria estável e excelente consistência entre os lotes.

Tecnologias de gravação

Gravação molhada

A gravação molhada utiliza soluções químicas especializadas para remover seletivamente o material de safira e formar as microestruturas desejadas.e um custo de processamento relativamente mais baixo, tornando-o adequado para padronização de grandes áreas e aplicações com requisitos moderados de perfil de parede lateral.

Ao controlar com precisão a composição da solução, a temperatura e o tempo de gravação, pode-se obter um controle estável da profundidade da gravação e da morfologia da superfície.As bolinhas de safira gravadas em húmido são amplamente utilizadas em substratos de embalagens LED, camadas de suporte estrutural e aplicações MEMS selecionadas.

Gravura a Seco

A gravação seca, como a gravação por plasma ou a gravação por íons reativos (RIE), emprega íons de alta energia ou espécies reativas para gravar safira através de mecanismos físicos e químicos.Este método proporciona anisotropia superior, alta precisão e excelente capacidade de transferência de padrões, permitindo a fabricação de características finas e microestruturas de alta relação de aspecto.

A gravação a seco é particularmente adequada para aplicações que exigem paredes laterais verticais, definição nítida de características e controle dimensional apertado, como dispositivos Micro-LED,embalagens avançadas de semicondutores, e estruturas MEMS de alto desempenho.

Principais características e vantagens

• Substrato de safira monocristalino de alta pureza, com excelente resistência mecânica

• Opções de processo flexíveis: gravação em húmido ou gravação em seco com base nos requisitos da aplicação

• Alta dureza e resistência ao desgaste para uma fiabilidade a longo prazo

• Excelente estabilidade térmica e química, adequada para ambientes adversos

• Alta transparência óptica e propriedades dielétricas estáveis

• Alta uniformidade do padrão e consistência de lote para lote

Aplicações

• Embalagens e substratos de ensaio de LED e Micro-LED

• Outros aparelhos e aparelhos de televisão

• Sensores MEMS e sistemas microeletromecânicos

• Componentes ópticos e estruturas de alinhamento de precisão

• Instituições de investigação e desenvolvimento de microestruturas personalizadas

Personalização e Serviços

Oferecemos serviços de personalização abrangentes, incluindo design de padrão, seleção de método de gravação (mosco ou seco), controle de profundidade de gravação, espessura e tamanho do substrato,com um comprimento de diâmetro não superior a 50 mm,Procedimentos rigorosos de controlo de qualidade e inspecção garantem que cada bolacha gravada em safira cumpra os elevados padrões de fiabilidade e desempenho antes da entrega.

Perguntas frequentes

P1: Qual é a diferença entre a gravação em húmido e a gravação em seco para safira?

A:A gravação em húmido baseia-se em reações químicas e é adequada para um processamento de grande área e econômico, enquanto a gravação em seco utiliza técnicas baseadas em plasma ou íons para alcançar uma precisão mais elevada,melhor anisotropiaA escolha depende da complexidade estrutural, dos requisitos de precisão e das considerações de custo.

Q2: Que processo de gravação devo escolher para a minha aplicação?

A:A gravação em húmido é recomendada para aplicações que exigem padrões uniformes com precisão moderada, como substratos LED padrão.ou aplicações Micro-LED e MEMS onde a geometria precisa é crítica.

Q3: Você pode apoiar padrões e especificações personalizados?

A:Suportamos desenhos totalmente personalizados, incluindo layout de padrão, tamanho da característica, profundidade de gravação, espessura da bolacha e dimensões do substrato.