Wafer de silício Wafer de Si 8 polegadas tipo N tipo P tipo <111> <100> <110> SSP DSP grau Prime grau Dummy
Detalhes do produto:
Lugar de origem: | China |
Marca: | ZMSH |
Condições de Pagamento e Envio:
Termos de pagamento: | T/T |
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Informação detalhada |
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Diâmetro: | 200 mm±0,2 mm | Método do crescimento: | Czochralski (CZ) |
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Incline-se.: | ≤ 30 μm | Warp.: | ≤ 30 μm |
Variação da espessura total (TTV): | ≤ 5 μm | Partículas: | ≤ 50@≥ 0,16 μm |
Concentração de oxigênio: | ≤ 18 ppm | ||
Destacar: | Tipo bolacha de P de silicone,Tipo bolacha de N de silicone,Wafer de silício de 8 polegadas |
Descrição de produto
Wafer de silício Wafer de Si 8 polegadas tipo N tipo P tipo <111> <100> <110> SSP DSP grau Prime grau Dummy
Visão geral do produto: Wafer de silício de 8 polegadas
Os wafers de silício são a espinha dorsal da indústria de semicondutores, servindo de substrato fundamental para circuitos integrados, microchips e vários componentes electrónicos.Wafer de silício de 8 polegadas (200 mm) Prime GradeO produto é concebido para satisfazer os requisitos rigorosos das aplicações de alto desempenho.Tecnologia de crescimento de cristais Czochralski (CZ), assegurando qualidade e consistência superiores.< 100>, superfícies polidas de lado único (SSP) ou polidas de lado duplo (DSP), eDopagem do tipo P com boro, estas placas são ideais para utilização como materiais semicondutores em tecnologias de ponta.
1.Material e Fabricação
1.1 Silício monocristalino
A bolacha de 8 polegadas é fabricada a partir de silício de cristal único de ultra-alta pureza.assegurando uma excelente uniformidade na estrutura cristalina e um mínimo de defeitos de redeEste processo garante a fiabilidade da bolacha em aplicações eletrónicas de alta precisão.
1.2 Qualidade de primeira qualidade
Os wafers de silício de primeira qualidade representam o mais alto padrão de qualidade na indústria de semicondutores.Estas placas passam por testes rigorosos e um rigoroso controlo de qualidade para garantir a sua adequação aos processos críticos de fabricoAs características das bolinhas de qualidade superior incluem:
- Contaminação extremamente baixa de partículas.
- Excepcional planura da superfície e rugosidade mínima.
- Alta uniformidade de resistividade e controlo de defeitos.
2.Principais especificações
Parâmetro | Especificações |
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Diâmetro | 8 polegadas (200 mm) |
Materiais | Silício monocristalino |
Método de crescimento de cristais | Czochralski (CZ) |
Orientação Cristalina | < 100> |
Tipo/Dopante | Tipo P / Boro |
Revestimento de superfície | Polida de lado único (SSP) ou polida de lado duplo (DSP) |
Resistividade | Personalizável com base nas necessidades da aplicação |
Espessura | Padrão: 725 μm ± 25 μm |
Flatness (TTV) | ≤ 5 μm |
Arco/coroa | ≤ 30 μm |
Roughness da superfície (Ra) | SSP: < 0,5 nm; DSP: < 0,3 nm |
Embalagem | Embalagem de sala limpa da classe 100, 25 wafers por cassete |
3.Orientação do cristal: < 100>
A orientação cristalina <100> é uma das orientações mais utilizadas na indústria de semicondutores devido às suas propriedades de gravação isotrópica e características mecânicas uniformes.Esta orientação permite que a bolacha forneça um desempenho consistente durante processos como a gravação química, implantação iônica e oxidação.
4.Silicio tipo P com dopante de boro
A designação de tipo P indica que a bolacha é dopada comBoreto, um elemento do Grupo III que cria "buracos" como portadores majoritários de carga.e tecnologia complementar de óxido metálico-semicondutor (CMOS).
Os principais benefícios do doping do tipo P incluem:
- Desempenho elétrico estável sob uma ampla gama de temperaturas.
- Alta compatibilidade com processos de fabricação de semicondutores padrão.
5.Revestimento de superfície: SSP e DSP
5.1 Polido de um só lado (SSP)
- Utilizado para aplicações em que apenas uma superfície requer um elevado grau de suavidade e planosidade.
- O lado não polido mantém uma textura natural, útil para manipulação específica ou necessidades de ligação.
- Comumente aplicado em MEMS, sensores e wafers de teste.
5.2 Polido por dois lados (DSP)
- Ambos os lados da bolacha são polidos para obter uma superfície excepcionalmente lisa com baixa rugosidade (Ra < 0,3 nm).
- É essencial para processos de alta precisão, como litografia e deposição de película fina.
- Assegura o mínimo de tensão e deformação durante a fabricação, tornando-o adequado para microeletrônicos avançados.
6.Propriedades térmicas e mecânicas
A bolacha de 8 polegadas demonstra excelentes propriedades térmicas e mecânicas, que são críticas para os processos de alta temperatura comumente encontrados na fabricação de semicondutores:
- Alta estabilidade térmica:O baixo coeficiente de expansão térmica garante a estabilidade dimensional durante o recozimento ou processos térmicos rápidos.
- Resistência mecânica:O silício cultivado na CZ de alta qualidade resiste a tensões físicas durante a manipulação e fabrico.
7.Aplicações
A Wafer de Silício Prime Grade de 8 polegadas é versátil e serve uma ampla gama de aplicações nas indústrias de semicondutores e eletrônicos:
7.1 Dispositivos semicondutores
- Tecnologia CMOS:Forma o material de base para a maioria dos circuitos integrados, incluindo processadores e dispositivos de memória.
- Dispositivos de alimentação:Ideal para a fabricação de transistores de potência, diodos e IGBTs devido às suas propriedades elétricas estáveis.
7.2 MEMS (Sistemas Micro-Electro-Mecânicos)
O acabamento de superfície preciso e a orientação cristalina tornam esta bolacha perfeita para dispositivos MEMS como acelerômetros, giroscópios e sensores de pressão.
7.3 Fotónica e Optoelectrónica
A bolacha é usada em aplicações fotônicas, como sensores ópticos, diodos emissores de luz (LEDs) e células fotovoltaicas.
7.4 I&D e prototipagem
A sua superfície de alta qualidade e as suas características eléctricas tornam-na uma excelente escolha para instituições de investigação e desenvolvimento de protótipos.
8.Embalagem e manipulação
Para preservar a qualidade da bolacha, ela é embalada sob condições de sala limpa rigorosas:
- Classe 100 Ambiente:Assegura a mínima contaminação por partículas durante a embalagem.
- Embalagem segura:Os wafers são colocados em cassetes (25 wafers por cassete) e selados em sacos com nitrogênio para evitar a oxidação e a contaminação durante o transporte.
9.Vantagens da Wafer de Silício Prime Grade de 8 polegadas
9.1 Qualidade excepcional
A classificação de grau superior garante uma planitude incomparável, suavidade da superfície e densidade mínima de defeitos.
9.2 Compatibilidade com as normas do sector
Estas placas estão em conformidade com as normas internacionais, como a SEMI M1, garantindo a sua compatibilidade com os processos de fabrico globais.
9.3 Fabricação eficiente em termos de custos
O tamanho de 8 polegadas atinge um equilíbrio entre acessibilidade e volume de produção, tornando-se um padrão da indústria por muitos anos.
9.4 Versatilidade
A disponibilidade de opções de SSP e DSP garante que as placas possam ser adaptadas a uma grande variedade de aplicações.
10.Opções de personalização
Para atender às necessidades específicas do cliente, a Wafer de Silício Prime Grade de 8 polegadas pode ser personalizada das seguintes maneiras:
- Intervalo de resistência:Ajustável para se adequar aos requisitos de diferentes dispositivos e processos.
- Variações de espessura:Podem ser fabricadas espessuras especiais para aplicações únicas.
- Capa de óxido:Podem ser adicionadas camadas de óxido térmico ou químico conforme necessário.
11.Conclusão
A Wafer de Silício Prime Grade de 8 polegadas representa o auge da tecnologia de wafer de silício, fornecendo qualidade, desempenho e versatilidade incomparáveis.Suas especificações avançadas e processos de fabricação robustos tornam-no indispensável na produção de dispositivos de semicondutores modernosQuer esteja a desenhar processadores de próxima geração, dispositivos MEMS ou fotónica de ponta, esta wafer garante a fiabilidade e precisão necessárias para o sucesso.
Ao oferecer opções de SSP e DSP, bem como a flexibilidade para personalizar a resistividade e a espessura, estas placas estão preparadas para atender às demandas em evolução da indústria de semicondutores.As suas aplicações generalizadas na fabricação e na investigação de alta tecnologia consolidam o seu estatuto de componente crítico da cadeia global de fornecimento de electrónica.