Nome da marca: | ZMSH |
Número do modelo: | GaP wafer |
GaP Wafer, Gallium Phosphide Orientação de cristal único (111)A 0°±0.2 Células solares
Gallium Phosphide GaP, um semicondutor importante de propriedades elétricas únicas como outros materiais compostos III-V, cristaliza na estrutura cúbica ZB termodinâmicamente estável,é um material cristalino semitransparente de cor laranja-amarelo com um intervalo de banda indireta de 2.26 eV (300K), que é sintetizado a partir de gálio e fósforo de alta pureza de 6N 7N, e transformado em cristal único pela técnica Liquid Encapsulated Czochralski (LEC).O cristal de fosfeto de gálio é dopado com enxofre ou telúrio para obter um semicondutor de tipo n, e zinco dopado como condutividade de tipo p para fabricação posterior em wafer desejado, que tem aplicações em sistemas ópticos, dispositivos eletrônicos e outros optoeletrônicos.A bolacha GaP de cristal único pode ser preparada Epi-Ready para o seu LPEAplicação epitaxial de MOCVD e MBE.A condutividade n-tipo ou não dopada na Western Minmetals (SC) Corporation pode ser oferecida em tamanho 2′′ e 3′′ (50mm), 75 mm de diâmetro), orientação < 100>, < 111> com acabamento de superfície de processo de corte, polir ou epi-pronto.
Parâmetro | Valor |
---|---|
Método de crescimento | LEC |
Arco-íris | Max:10 |
Diâmetro | 500,6 ± 0,3 mm |
Contagem de partículas | N/A |
Ângulo de orientação | N/A |
TTV/TIR | Max:10 |
Suplementos | S |
Marcação a laser | N/A |
Orientação | (111) A 0°±0.2 |
Mobilidade | Min:100 |
Material semicondutor | Substrato de semicondutores |
Oxidação superficial | Wafer de óxido de silício ultra espessa |
Marca: ZMSH
Número do modelo: Wafer GaP
Local de origem: China
TTV/TIR: Max:10
Max:10
OF Localização/Longo: EJ[0-1-1]/ 16±1 mm
Mobilidade: Min:100
Resistência: Min:0.01 Max:0.5 Ω.cm
Características:
• Utilização da tecnologia do filme fino
• Wafer de óxido de silício
• Electro-oxidação
• Serviço personalizado
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