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Detalhes dos produtos

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equipamento de laboratório científico
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Máquina de Polimento por Feixe de Íons para SiC Safira Quartzo YAG

Máquina de Polimento por Feixe de Íons para SiC Safira Quartzo YAG

Nome da marca: ZMSH
MOQ: 1
preço: by case
Detalhes da embalagem: custom cartons
Condições de pagamento: T/T
Informações detalhadas
Place of Origin:
China
Método de processamento:
Remoção de material de pulverização de íons sob vácuo
Tipo de processamento:
Figurando e polimento de superfície sem contato
Materiais disponíveis:
Quartzo, vidro microcristalino, k9, safira, yag, carboneto de silício, carboneto de silício de crist
Tamanho máximo da peça de trabalho:
Φ4000 mm
Eixos de movimento:
3 eixos / 5 eixos
Estabilidade de remoção:
≥95%
Supply Ability:
By case
Destacar:

Polidora de feixe de íons para SiC safira

,

Máquina de polimento por feixe de íons para semicondutores

,

Equipamento de laboratório científico com feixe de íons

Descrição do produto

Máquina de Polimento por Feixe de Íons
Precisão em Nível Atômico · Processamento Sem Contato · Superfícies Ultra-Suaves

 


Visão Geral do Produto da Máquina de Polimento por Feixe de Íons
 

A Máquina CNC de Modelagem/Polimento por Feixe de Íons opera com base no princípio de sputtering iônico. Em condições de vácuo, a fonte de íons gera um feixe de plasma, que é acelerado em um feixe de íons que bombardeia a superfície da peça para remoção de material em nível atômico, permitindo a fabricação ultraprecisa de componentes ópticos.


Esta tecnologia oferece processamento sem contato, livre de tensão mecânica ou danos subsuperficiais, e é ideal para óptica de alta precisão em astronomia, aeroespacial, semicondutores e pesquisa científica.

 

Máquina de Polimento por Feixe de Íons para SiC Safira Quartzo YAG 0    Máquina de Polimento por Feixe de Íons para SiC Safira Quartzo YAG 1

 


Princípio de Funcionamento da Máquina de Polimento por Feixe de Íons

  • Máquina de Polimento por Feixe de Íons para SiC Safira Quartzo YAG 2Geração de Íons – Gás inerte (por exemplo, argônio) é introduzido na câmara de vácuo e ionizado por um campo de descarga elétrica.

 

  • Aceleração de Íons e Formação de Feixe – Os íons são acelerados para centenas ou milhares de elétron-volts (eV) e moldados em um ponto de feixe estável por meio de óticas de foco.

 

  • Remoção de Material – O feixe de íons pulveriza fisicamente os átomos da superfície sem reações químicas.

 

  • Medição de Erros e Planejamento de Trajetória – Os erros de figura da superfície são medidos por interferometria, então as funções de remoção são usadas para calcular os tempos de permanência do feixe e gerar trajetórias de processamento.

 

  • Correção em Malha Fechada – Os ciclos de processamento e medição são repetidos até que os alvos RMS/PV sejam alcançados.

 

 

 


Características do Equipamento da Máquina de Polimento por Feixe de Íons

  • Processamento sem contato – Capaz de lidar com todas as formas de superfície

  • Taxa de remoção estável – Precisão de correção de figura sub-nanométrica

  • Sem danos subsuperficiais – Preserva a integridade óptica

  • Alta consistência – Flutuação mínima em materiais de dureza variável

  • Correção de baixa/média frequência – Sem geração de erros de média-alta frequência

  • Baixo custo de manutenção – Operação contínua de longo prazo com tempo de inatividade mínimo

 


Capacidade de Processamento do Equipamento da Máquina de Polimento por Feixe de Íons

Superfícies Disponíveis:

  • Componentes Ópticos Simples: Plano, esfera, prisma

  • Componentes Ópticos Complexos: Asfera simétrica/assimétrica, asfera fora do eixo, superfície cilíndrica

  • Componentes Ópticos Especiais: Óptica ultrafina, óptica de lâminas, óptica hemisférica, óptica conformada, placas de fase, superfícies de forma livre, outras formas personalizadas

Materiais Disponíveis:

  • Vidro óptico comum: Quartzo, Microcristalino, K9, etc.

  • Óptica infravermelha: Silício, Germânio, etc.

  • Metais: Alumínio, Aço Inoxidável, Liga de Titânio, etc.

  • Materiais cristalinos: YAG, Carbeto de Silício Monocristalino, etc.

  • Outros materiais duros/quebradiços: Carbeto de Silício, etc.

Qualidade/Precisão da Superfície:

  • PV < 10 nm

  • RMS ≤ 0,5 nm

 


Vantagens do Produto da Máquina de Polimento por Feixe de Íons

  • Precisão de remoção em nível atômico – Permite superfícies ultra-suaves para sistemas ópticos exigentes

  • Compatibilidade versátil de formas – De óptica plana a formas livres complexas

  • Ampla adaptabilidade de materiais – De cristais de precisão a cerâmicas duras e metais

  • Capacidade de grande abertura – Processa óptica de até Φ4000 mm

  • Operação estável estendida – Funciona de 3 a 5 semanas sem manutenção da câmara de vácuo

 


Modelos Típicos da Máquina de Polimento por Feixe de Íons

  • IBF350 / IBF750 / IBF1000 / IBF1600 / IBF2000 / IBF4000

  • Eixos de Movimento: 3 eixos / 5 eixos

  • Tamanho Máximo da Peça: até Φ4000 mm

 

Item Especificação
Método de Processamento Remoção de material por sputtering iônico sob vácuo
Tipo de Processamento Modelagem e polimento de superfície sem contato
Superfícies Disponíveis Plano, esfera, prisma, asfera, asfera fora do eixo, superfície cilíndrica, superfície de forma livre
Materiais Disponíveis Quartzo, vidro microcristalino, K9, safira, YAG, carbeto de silício, carbeto de silício monocristalino, silício, germânio, alumínio, aço inoxidável, liga de titânio, etc.
Tamanho Máximo da Peça Φ4000 mm
Eixos de Movimento 3 eixos / 5 eixos
Estabilidade de Remoção ≥95%
Precisão da Superfície PV < 10 nm; RMS ≤ 0,5 nm (RMS típico < 1 nm; PV < 15 nm)
Capacidade de Processamento Corrige erros de baixa a média frequência sem introduzir erros de média a alta frequência
Operação Contínua 3 a 5 semanas sem manutenção da câmara de vácuo
Custo de Manutenção Baixo
Modelos Típicos IBF350 / IBF750 / IBF1000 / IBF1600 / IBF2000 / IBF4000

 


 

Caso 1 – Espelho Plano Padrão

  • Peça: Plano de quartzo D630 mm

  • Resultado: PV 46,4 nm; RMS 4,63 nm

​​Máquina de Polimento por Feixe de Íons para SiC Safira Quartzo YAG 3

Caso 2 – Espelho Refletor de Raios X

 

  • Peça: Plano de silício de 150 × 30 mm

  • Resultado: PV 8,3 nm; RMS 0,379 nm; Inclinação 0,13 µrad

Máquina de Polimento por Feixe de Íons para SiC Safira Quartzo YAG 4

Caso 3 – Espelho Fora do Eixo

  • Peça: Espelho moído fora do eixo D326 mm

  • Resultado: PV 35,9 nm; RMS 3,9 nm

Máquina de Polimento por Feixe de Íons para SiC Safira Quartzo YAG 5


Campos de Aplicação da Máquina de Polimento por Feixe de Íons

  • Óptica astronômica – Espelhos primários/secundários de grandes telescópios

  • Óptica espacial – Sensoriamento remoto por satélite, imagem espacial profunda

  • Sistemas de laser de alta potência – Óptica ICF, modelagem de feixe

  • Óptica de semicondutores – Lentes e espelhos de litografia

  • Instrumentação científica – Espelhos de raios X/nêutrons, componentes padrão de metrologia

 


 

 

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Sobre Nós

 

A ZMSH é especializada em desenvolvimento de alta tecnologia, produção e vendas de vidro óptico especial e novos materiais cristalinos. Nossos produtos atendem a eletrônicos ópticos, eletrônicos de consumo e militares. Oferecemos componentes ópticos de safira, capas de lentes de telefones celulares, cerâmica, LT, carbeto de silício SIC, quartzo e wafers de cristal semicondutor. Com expertise qualificada e equipamentos de ponta, nos destacamos no processamento de produtos não padronizados, com o objetivo de ser uma empresa de alta tecnologia em materiais optoeletrônicos.

Máquina de Polimento por Feixe de Íons para SiC Safira Quartzo YAG 8