Nome da marca: | ZMSH |
MOQ: | 1 |
preço: | by case |
Detalhes da embalagem: | custom cartons |
Condições de pagamento: | T/T |
Máquina de Polimento por Feixe de Íons
Precisão em Nível Atômico · Processamento Sem Contato · Superfícies Ultra-Suaves
Visão Geral do Produto da Máquina de Polimento por Feixe de Íons
A Máquina CNC de Modelagem/Polimento por Feixe de Íons opera com base no princípio de sputtering iônico. Em condições de vácuo, a fonte de íons gera um feixe de plasma, que é acelerado em um feixe de íons que bombardeia a superfície da peça para remoção de material em nível atômico, permitindo a fabricação ultraprecisa de componentes ópticos.
Esta tecnologia oferece processamento sem contato, livre de tensão mecânica ou danos subsuperficiais, e é ideal para óptica de alta precisão em astronomia, aeroespacial, semicondutores e pesquisa científica.
Processamento sem contato – Capaz de lidar com todas as formas de superfície
Taxa de remoção estável – Precisão de correção de figura sub-nanométrica
Sem danos subsuperficiais – Preserva a integridade óptica
Alta consistência – Flutuação mínima em materiais de dureza variável
Correção de baixa/média frequência – Sem geração de erros de média-alta frequência
Baixo custo de manutenção – Operação contínua de longo prazo com tempo de inatividade mínimo
Superfícies Disponíveis:
Componentes Ópticos Simples: Plano, esfera, prisma
Componentes Ópticos Complexos: Asfera simétrica/assimétrica, asfera fora do eixo, superfície cilíndrica
Componentes Ópticos Especiais: Óptica ultrafina, óptica de lâminas, óptica hemisférica, óptica conformada, placas de fase, superfícies de forma livre, outras formas personalizadas
Materiais Disponíveis:
Vidro óptico comum: Quartzo, Microcristalino, K9, etc.
Óptica infravermelha: Silício, Germânio, etc.
Metais: Alumínio, Aço Inoxidável, Liga de Titânio, etc.
Materiais cristalinos: YAG, Carbeto de Silício Monocristalino, etc.
Outros materiais duros/quebradiços: Carbeto de Silício, etc.
Qualidade/Precisão da Superfície:
PV < 10 nm
RMS ≤ 0,5 nm
Precisão de remoção em nível atômico – Permite superfícies ultra-suaves para sistemas ópticos exigentes
Compatibilidade versátil de formas – De óptica plana a formas livres complexas
Ampla adaptabilidade de materiais – De cristais de precisão a cerâmicas duras e metais
Capacidade de grande abertura – Processa óptica de até Φ4000 mm
Operação estável estendida – Funciona de 3 a 5 semanas sem manutenção da câmara de vácuo
IBF350 / IBF750 / IBF1000 / IBF1600 / IBF2000 / IBF4000
Eixos de Movimento: 3 eixos / 5 eixos
Tamanho Máximo da Peça: até Φ4000 mm
Item | Especificação |
---|---|
Método de Processamento | Remoção de material por sputtering iônico sob vácuo |
Tipo de Processamento | Modelagem e polimento de superfície sem contato |
Superfícies Disponíveis | Plano, esfera, prisma, asfera, asfera fora do eixo, superfície cilíndrica, superfície de forma livre |
Materiais Disponíveis | Quartzo, vidro microcristalino, K9, safira, YAG, carbeto de silício, carbeto de silício monocristalino, silício, germânio, alumínio, aço inoxidável, liga de titânio, etc. |
Tamanho Máximo da Peça | Φ4000 mm |
Eixos de Movimento | 3 eixos / 5 eixos |
Estabilidade de Remoção | ≥95% |
Precisão da Superfície | PV < 10 nm; RMS ≤ 0,5 nm (RMS típico < 1 nm; PV < 15 nm) |
Capacidade de Processamento | Corrige erros de baixa a média frequência sem introduzir erros de média a alta frequência |
Operação Contínua | 3 a 5 semanas sem manutenção da câmara de vácuo |
Custo de Manutenção | Baixo |
Modelos Típicos | IBF350 / IBF750 / IBF1000 / IBF1600 / IBF2000 / IBF4000 |
Caso 1 – Espelho Plano Padrão
Peça: Plano de quartzo D630 mm
Caso 2 – Espelho Refletor de Raios X
Peça: Plano de silício de 150 × 30 mm
Resultado: PV 8,3 nm; RMS 0,379 nm; Inclinação 0,13 µrad
Caso 3 – Espelho Fora do Eixo
Peça: Espelho moído fora do eixo D326 mm
Resultado: PV 35,9 nm; RMS 3,9 nm
Óptica astronômica – Espelhos primários/secundários de grandes telescópios
Óptica espacial – Sensoriamento remoto por satélite, imagem espacial profunda
Sistemas de laser de alta potência – Óptica ICF, modelagem de feixe
Óptica de semicondutores – Lentes e espelhos de litografia
Instrumentação científica – Espelhos de raios X/nêutrons, componentes padrão de metrologia
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Sobre Nós
A ZMSH é especializada em desenvolvimento de alta tecnologia, produção e vendas de vidro óptico especial e novos materiais cristalinos. Nossos produtos atendem a eletrônicos ópticos, eletrônicos de consumo e militares. Oferecemos componentes ópticos de safira, capas de lentes de telefones celulares, cerâmica, LT, carbeto de silício SIC, quartzo e wafers de cristal semicondutor. Com expertise qualificada e equipamentos de ponta, nos destacamos no processamento de produtos não padronizados, com o objetivo de ser uma empresa de alta tecnologia em materiais optoeletrônicos.