Máquina de polir feixe de íons
Precisão a nível atómico · Processamento sem contacto · Superfícies ultra- suaves

Visão geral do produto da máquina de polimento de feixe de íons
 

A máquina CNC de elaboração/poluição de feixes de íons funciona com base no princípio dePoluição por iõesEm condições de vácuo, a fonte de íons gera um feixe de plasma, que é acelerado num feixe de íons que bombardeia a superfície da peça de trabalho para remoção de material a nível atómico,que permitam a fabricação ultraprecisa de componentes ópticos.

Esta tecnologia ofereceProcessamento sem contacto, livre de estresse mecânico ou danos subterrâneos, e é ideal para óptica de alta precisão em astronomia, aeroespacial, semicondutores e pesquisa científica.

Princípio de funcionamentode máquina de polir feixe de íons

• Geração de íonsO gás inerte (por exemplo, argônio) é introduzido na câmara de vácuo e ionizado por um campo de descarga elétrica.

• Aceleração de íons e formação de feixeOs íons são acelerados para centenas ou milhares de elétronvolts (eV) e formados em um ponto de feixe estável por meio de óptica de foco.

• Eliminação de materiaisO feixe de íons pulveriza fisicamente os átomos da superfície sem reações químicas.

• Medição de erros e planejamento do caminhoOs erros da figura da superfície são medidos através da interferometria, depois as funções de remoção são utilizadas para calcular os tempos de permanência do feixe e gerar caminhos de processamento.

• Correção de circuito fechadoOs ciclos de processamento e medição são repetidos até que os objectivos RMS/PV sejam atingidos.

Características do equipamentode máquina de polir feixe de íons

• Processamento sem contactoCapaz de lidar com todas as formas de superfície

• Taxa de remoção estávelPrecisão de correcção de figuras subnanométricas

• Não há danos no subsoloPreserva a integridade óptica

• Alta consistência¢ Fluctuação mínima entre materiais de dureza variável

• Correção de frequência baixa/médiaNão é gerado erro de frequência média-alta

• Baixo custo de manutenção¢ Operação contínua a longo prazo com tempo de inatividade mínimo

Capacidade de processamento do equipamentode máquina de polir feixe de íons

Superfícies disponíveis:

• Componentes ópticos simples: plano, esfera, prisma

• Componentes ópticos complexos: asfera simétrica/assimétrica, asfera fora do eixo, superfície cilíndrica

• Componentes ópticos especiais: óptica ultrafina, óptica de lajes, óptica hemisférica, óptica conformal, placas de fase, superfícies de forma livre, outras formas sob medida

Materiais disponíveis:

• Vidro óptico comum: quartzo, microcristalino, K9, etc.

• Óptica infravermelha: Silício, Germânio, etc.

• Metais: alumínio, aço inoxidável, liga de titânio, etc.

• Materiais cristalinos: YAG, carburo de silício monocristalino, etc.

• Outros materiais duros/frágil: carburo de silício, etc.

Qualidade / precisão da superfície:

• PV < 10 nm

• RMS ≤ 0,5 nm

Vantagens do produtode máquina de polir feixe de íons

• Precisão de remoção a nível atómicoPermite superfícies ultra- suaves para sistemas ópticos exigentes

• Compatibilidade de forma versátil¢ Da óptica plana às formas livres complexas

• Ampla adaptabilidade dos materiais¢ Desde cristais de precisão até cerâmica e metais duros

• Capacidade de abertura grandeOpticas de processamento até Φ4000 mm

• Função estável prolongadaFunciona 3 a 5 semanas sem manutenção da câmara de vácuo

Modelos típicos de máquina de polir feixe de íons

• IBF350 / IBF750 / IBF1000 / IBF1600 / IBF2000 / IBF4000

• Eixos de movimento: 3 eixos / 5 eixos

• Tamanho máximo da peça: até Φ4000 mm

Caso 1 Espelho plano padrão

• Peça de trabalho: D630 mm Quartz plano

• Resultado: PV 46,4 nm; RMS 4,63 nm

- Não.

Caso 2 X-ray Reflector Mirror

• Peça de trabalho: 150 × 30 mm de silício plano

• Resultado: PV 8,3 nm; RMS 0,379 nm; inclinação 0,13 μrad

- Não.

Caso 3  Espelho fora do eixo

• Peça de trabalho: D326 mm Espelho do solo fora do eixo

• Resultado: PV 35,9 nm; RMS 3,9 nm

Áreas de aplicação da máquina de polimento de feixe de íons

• Óptica astronómica¢ Espelhos primários/secundários de grandes telescópios

• Óptica espacial¢ Remote sensing por satélite, imagens do espaço profundo

• Sistemas a laser de alta potência¢ Óptica ICF, modelagem de feixe

• Óptica de semicondutoresLentes e espelhos de litografia

• Instrumentação científica- Espelhos de raios-X/neutrões, componentes padrão de metrologia