As placas de LNOI (Lithium Niobate on Insulator) são utilizadas numa ampla gama de aplicações avançadas devido às suas propriedades excepcionais,com coeficientes ópticos não lineares elevados e fortes características mecânicasNa óptica integrada, as wafers LNOI são essenciais para criar dispositivos fotônicos, como moduladores, guias de onda e ressonadores, que são críticos para manipular a luz em circuitos integrados.Em telecomunicações, as wafers LNOI são amplamente utilizadas em moduladores ópticos, que permitem a transmissão de dados de alta velocidade em redes de fibra óptica.As wafers LNOI desempenham um papel vital na geração de pares de fótons emaranhados, que são fundamentais para a distribuição de chaves quânticas (QKD) e comunicação segura.quando utilizadas para criar sensores ópticos e acústicos de alta sensibilidade para monitorização ambientalEstas diversas aplicações tornam os wafers LNOI um material chave no desenvolvimento de tecnologias de próxima geração em vários campos.
Perguntas frequentesdeWafer LNOI
P: O que é o INOI?
R: LNOI significa Niobato de Lítio em Isolador.Refere-se a um tipo de bolacha que apresenta uma fina camada de niobato de lítio (LiNbO3) ligada a um substrato isolante como silício ou outro material isolanteOs wafers LNOI mantêm as excelentes propriedades ópticas, piezoelétricas e piroelétricas do niobato de lítio, tornando-os ideais para uso em várias tecnologias fotônicas, de telecomunicações e quânticas.
Q: Quais são as principais aplicações das wafers LNOI?
A: As wafers LNOI são utilizadas em uma variedade de aplicações, incluindo óptica integrada para dispositivos fotónicos, moduladores ópticos em telecomunicações, geração de fótons emaranhados em computação quântica,e em sensores para medições ópticas e acústicas na monitorização ambiental, diagnósticos médicos e testes industriais.
P: Como são fabricadas as bolinhas LNOI?
R:A fabricação de wafers LNOI envolve várias etapas, incluindo a implantação de íons, ligação da camada de niobato de lítio a um substrato (geralmente silício), recozimento para separação,e polimento químico mecânico (CMP) para obter umaA implantação de íons cria uma camada fina e frágil que pode ser separada do cristal de niobato de lítio em massa, deixando para trás uma fina camada de níquel.filme de niobato de lítio de alta qualidade no substrato.
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