Nome da marca: | ZMSH |
Número do modelo: | Forno de crescimento de lingotes de SiC |
MOQ: | 1 |
Condições de pagamento: | T/T |
Método de resistência do forno de crescimento monocristalino de carburo de silício 6 8 12 polegadas forno de crescimento de lingotes SiC
A ZMSH apresenta orgulhosamente o seu forno de crescimento de cristal único de SiC, uma solução avançada projetada para a fabricação de wafers de SiC de alto desempenho.O nosso forno produz eficientemente cristais de SiC em 6 polegadas, 8 polegadas e 12 polegadas, atendendo às crescentes necessidades de indústrias como veículos elétricos (VE), energia renovável e eletrônicos de alta potência.
Especificações | Detalhes |
---|---|
Dimensões (L × P × H) | 2500 × 2400 × 3456 mm ou personalizar |
Diâmetro do cadinho | 900 mm |
Pressão de vácuo final | 6 × 10−4 Pa (após 1,5h de vácuo) |
Taxa de vazamento | ≤ 5 Pa/12h (cozimento) |
Diâmetro do eixo de rotação | 50 mm |
Velocidade de rotação | 0.5·5 rpm |
Método de aquecimento | Aquecimento por resistência elétrica |
Temperatura máxima do forno | 2500°C |
Potência de aquecimento | 40 kW × 2 × 20 kW |
Medição da temperatura | Pirômetro infravermelho de duas cores |
Intervalo de temperatura | 900 ∼ 3000°C |
Precisão de temperatura | ± 1°C |
Intervalo de pressão | 1 ‰ 700 mbar |
Precisão do controlo da pressão | 1·10 mbar: ±0,5% F.S.; 10-100 mbar: ±0,5% F.S.; 100-700 mbar: ±0,5% F.S. |
Tipo de operação | Carregamento inferior, opções de segurança manual/automática |
Características opcionais | Medição de temperatura dupla, zonas de aquecimento múltiplas |
A principal força do nosso forno de crescimento de cristal único de SiC reside na sua capacidade de produzir consistentemente cristais de SiC de alta qualidade, sem defeitos.Gestão avançada do vácuo, e tecnologia de aquecimento de resistência de ponta, garantimos um crescimento cristalino impecável com defeitos mínimos.onde mesmo pequenas imperfeições podem afetar significativamente o desempenho do dispositivo final.
As wafers de SiC cultivadas no nosso forno ultrapassam os padrões da indústria tanto em desempenho como em fiabilidade.e alta condutividade elétrica, tornando-os ideais para dispositivos semicondutores de alta potência e alta frequência.Sistemas de energia renovável, e equipamento de telecomunicações.
Categoria de inspecção | Parâmetros de qualidade | Critérios de aceitação | Método de inspecção |
---|---|---|---|
1Estrutura cristalina | Densidade de dislocação | ≤ 1 cm−2 | Microscopia óptica / difração de raios-X |
Perfeição Cristalina | Sem defeitos ou rachaduras visíveis | Inspecção visual / AFM (microscopia de força atómica) | |
2. Dimensões | Diâmetro do ingoto | 6 polegadas, 8 polegadas ou 12 polegadas ± 0,5 mm | Medição do calibre |
Comprimento do ingote | ± 1 mm | Regra / Medição a laser | |
3Qualidade da superfície | Superfície rugosa | Ra ≤ 0,5 μm | Profilómetro de superfície |
Defeitos de superfície | Sem micro-fissuras, buracos ou arranhões | Inspecção visual / Exame microscópico | |
4. Propriedades elétricas | Resistividade | ≥ 103 Ω·cm (típico para SiC de alta qualidade) | Medição do Efeito Hall |
Mobilidade dos transportadores | > 100 cm2/V·s (para SiC de alto desempenho) | Medição do tempo de voo (TOF) | |
5. Propriedades térmicas | Conductividade térmica | ≥ 4,9 W/cm·K | Análise de flash a laser |
6Composição química | Teor de carbono | ≤ 1% (para um desempenho óptimo) | ICP-OES (espectroscopia de emissão óptica de plasma acoplada por indução) |
Impuridades do oxigénio | ≤ 0,5% | Espectrometria de massa de íons secundários (SIMS) | |
7Resistência à pressão | Força mecânica | Deve suportar testes de esforço sem fraturas. | Teste de compressão / teste de dobra |
8. Uniformidade | Uniformidade de cristalização | Variação de ≤ 5% entre lingotes | Mapeamento por raios-X / SEM (microscopia eletrônica de varredura) |
9. Homogeneidade de lingotes | Densidade de microporos | ≤ 1% por unidade de volume | Microscopia / varredura óptica |
P: Qual é o crescimento cristalino do carburo de silício?
R: O crescimento de cristais de carburo de silício (SiC) envolve a criação de cristais de SiC de alta qualidade através de processos como Czochralski ou Physical Vapor Transport (PVT), essenciais para dispositivos de semicondutores de potência.
Forno de crescimento de cristal único SiC Cristais de SiCDispositivos semicondutoresTecnologia de crescimento de cristais