Resumo: Neste passo a passo, destacamos ideias-chave de design e como elas se traduzem em desempenho.Veja como o Microfluidic Laser Equipment usa um jato de água fino para guiar a energia do laser para processamento de wafer de semicondutoresDescubra como este método híbrido de micromecânica reduz os danos causados pelo calor, evita a contaminação e melhora a qualidade das bordas em materiais duros e frágeis como as wafers de SiC e GaN.
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Método híbrido de microusinagem que acopla um fino jato de água a um feixe de laser para fornecimento preciso de energia.
O mecanismo de orientação de reflexão interna total garante uma transmissão precisa do feixe de laser para a peça de trabalho.
Resfriamento contínuo e remoção de detritos durante o processamento para uma operação mais limpa e estável.
Reduz danos causados pelo calor, contaminação, oxidação e microfissuras em materiais semicondutores.
Suporta vários comprimentos de onda de laser (1064 nm, 532 nm, 355 nm) e níveis de potência de até 200 W.
Diâmetros de bico configuráveis de 30 a 150 μm usando materiais de safira ou diamante.
Posicionamento de alta precisão com exatidão de até ±5 μm e repetibilidade de ±2 μm.
Aplicável a processos avançados de embalagem, corte de wafer, perfuração de cavacos e reparo de defeitos.
Perguntas Frequentes:
O que é tecnologia laser microjato?
A tecnologia laser Microjet é um processo de microusinagem híbrido onde um jato de água fino e de alta velocidade guia um feixe de laser usando reflexão interna total, fornecendo energia precisa à peça de trabalho, ao mesmo tempo que fornece resfriamento contínuo e remoção de detritos.
Quais são as principais vantagens do processamento a laser microjato em comparação ao processamento a laser seco?
As principais vantagens incluem redução de danos afetados pelo calor, menos contaminação e redeposição, menor risco de oxidação e microfissuras, redução do corte cônico e melhor qualidade da borda em materiais semicondutores duros e quebradiços.
Quais materiais semicondutores são mais adequados para processamento a laser microjato?
É particularmente adequado para materiais duros e frágeis, como carboneto de silício (SiC) e nitreto de gálio (GaN), bem como wafers de silício, materiais com banda ultralarga, como diamante e óxido de gálio, e substratos cerâmicos avançados selecionados.