| Nome da marca: | zmsh |
| MOQ: | 2 |
| preço: | by case |
| Detalhes da embalagem: | caixas personalizadas |
| Condições de pagamento: | T/T |
Esta bandeja de transporte de processo radial de precisão é um componente industrial avançado concebido para aplicações que exigem resistência mecânica excepcional, estabilidade térmica,e precisão dimensionalCom uma combinação de ranhuras anuais multi-zona e uma rede reforçada de costelas de apoio radial,A bandeja foi concebida para proporcionar um desempenho superior em ambientes de produção complexos e exigentesIndústrias como a fabricação de semicondutores, a epitaxia de LED, a sinterização avançada de cerâmica e o processamento a vácuo a alta temperatura dependem deste tipo de bandeja para garantir a confiabilidade, a consistência, a resistência e a resistência.e alta produtividade.
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A geometria da bandeja é otimizada para distribuir as cargas mecânicas uniformemente, manter a rigidez estrutural sob altas tensões,e melhorar a uniformidade térmica durante as operações que envolvem aquecimento e arrefecimento rápidosCombinado com materiais cerâmicos ou metálicos de alta pureza e processos de usinagem robustos, este produto representa uma nova geração de acessórios industriais concebidos para fabricação de precisão.
A bandeja incorpora várias camadas de slots anuais bem distribuídos.
Redução de peso:A menor massa diminui a inércia durante a rotação e melhora a eficiência operacional geral.
Optimização do fluxo de calor:As ranhuras aumentam a área efetiva de dissipação de calor, permitindo uma distribuição uniforme da temperatura em toda a superfície.
Projeto de redução de tensão:O padrão segmentado minimiza a concentração de tensão térmica e mecânica, reduzindo o risco de rachaduras ou deformações.
Esta arquitetura multi-zona é especialmente valiosa em processos de sinterização e semicondutores de alta temperatura, onde os gradientes térmicos devem ser controlados com precisão.
As costelas radiais formam um quadro estrutural interligado que aumenta significativamente a resistência mecânica.
Suporte a cargas pesadas sem deformação
Melhorar a estabilidade de rotação quando montado em fusos
Resistir à flexão ou deflexão durante os ciclos de aquecimento e arrefecimento
Manter a precisão dimensional a longo prazo
A combinação de estruturas anuais e radiais resulta num projecto altamente equilibrado capaz de manter a sua integridade em ambientes industriais intensos.
A superfície da bandeja é fabricada utilizando processos avançados de usinagem CNC e condicionamento da superfície.
Alta planura
Uniformidade de espessura precisa
Pontos de contacto de carga suave
Redução do atrito dos substratos ou acessórios
Compatibilidade constante com equipamentos automatizados
Tal usinagem de precisão é crítica para aplicações de semicondutores e ópticos, onde mesmo pequenos desvios podem levar a defeitos ou perda de rendimento.
No centro da bandeja está uma interface de montagem especializada composta por vários furos perfurados com precisão.
Instalação segura em eixos rotativos
Alinhamento com dispositivos de fornos ou câmaras de vácuo
Posicionamento estável para sistemas de manuseio automatizados
Integração com ferramentas de engenharia personalizadas
Isto garante que a bandeja se encaixa facilmente em vários fluxos de trabalho industriais e modelos de equipamento.
O anel externo inclui almofadas de reforço segmentadas que reforçam a borda e mantêm o equilíbrio rotacional.
Resistência à vibração
Estabilidade da carga periférica
Durabilidade sob impactos mecânicos repetidos
Juntamente com o sistema de costelas internas, o anel externo cria um suporte rígido e estável adequado para uma longa vida útil.
A bandeja pode ser fabricada a partir de vários materiais de alto desempenho, dependendo dos requisitos da aplicação:
Porosidade ultra-baixa
Alta condutividade térmica
Excelente resistência à corrosão
Ideal para ambientes semicondutores ultralimpos e vácuo
Excelente resistência a choques térmicos
Boa resistência mecânica
Rentabilidade para produção em massa
Apto para fornos de sinterização e fabrico de LED
Estável até 1600°C
A preços acessíveis e versáteis
Apto para cargas térmicas gerais e para processamento cerâmico
Boa maquinaria
Apto para equipamento mecânico, automação e manuseio
Ideal para processos não térmicos ou de temperatura média
Cada material é selecionado para garantir o máximo desempenho em condições ambientais específicas.
Caixa de suporte para sistemas CVD e PECVD
Plataforma de apoio para processos de oxidação e difusão
Detentor de aquecimento e processamento térmico rápido (RTP)
Manipulação de wafers e ferramentas de transferência automatizadas
Caixa de carregamento de wafers de safira e SiC
Portadores de processamento de substrato a alta temperatura
Plataforma de suporte epitaxial que requer perfis térmicos estáveis
Metalurgia em pó e sinterização
Cremagem de substratos cerâmicos
Caixas de fornos a vácuo de alta temperatura
Disco de fixação rotativo
Placa de base de alinhamento
Interface de montagem do equipamento
Transportador de manuseio automatizado personalizado
A sua versatilidade torna-o adequado para ambientes de engenharia térmica e mecânica.
A distribuição uniforme do calor minimiza os pontos quentes
Apto para ciclos térmicos rápidos
Ideal para operações de alta temperatura de precisão
Excelente resistência a tensões mecânicas
Antideformação sob mudanças de carga e temperatura
Uma longa vida útil reduz os ciclos de manutenção
Baixo risco de contaminação quando se utiliza SiC ou cerâmica
A precisão dimensional constante garante um alto rendimento do produto
Compatível com condições de vácuo, inércia ou atmosfera
Dimensões, espessura e geometria de ranhuras podem ser personalizadas
Vários materiais disponíveis
Interface de montagem central pode ser personalizada
Opções de acabamento e marcação de superfícies
Perguntas frequentes
Uma bandeja cerâmica SiC é um suporte de precisão feito de carburo de silício de alta pureza, projetado para suportar, carregar e transportar wafers ou substratos durante semicondutores, LED, ópticos,Fabricação a vácuoOferece uma excepcional estabilidade térmica, resistência mecânica e resistência à deformação em ambientes adversos, tais como altas temperaturas, plasma e processos químicos.
As bandejas de SiC oferecem vários benefícios de desempenho superiores:
Resistência à alta temperaturaaté 1600°C, sem deformação
Excelente condutividade térmica, assegurando a distribuição uniforme do calor
Resistência mecânica e rigidez excepcionais
Baixa expansão térmica, evitando a deformação durante o ciclo térmico
Alta resistência à corrosãoa gases plasmáticos e produtos químicos
Duração de vida mais longaem condições de fabrico contínuas de alta tensão
As bandejas de SiC são amplamente utilizadas em:
Manipulação de wafers de semicondutores
Processamento térmico LPCVD, PECVD, MOCVD
Processos de recozimento, difusão, oxidação e epitaxia
Carregamento de wafer de safira/substrato óptico
Ambientes de alto vácuo e de alta temperatura
Plataformas de fixação de CMP de precisão ou de polimento
Fotónica e equipamento avançado de embalagem
Sim, a cerâmica SiC oferece excelente resistência a choques térmicos devido à sua baixa CTE e alta resistência à fratura.tornando-o ideal para processos de ciclo de alta temperatura.
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Carbono de silício Chuck cerâmica para safira SiC Si GAAs Wafer
A ZMSH é especializada em desenvolvimento de alta tecnologia, produção e vendas de vidro óptico especial e novos materiais cristalinos.Oferecemos componentes ópticos SapphireCom experiência especializada e equipamentos de ponta, nos destacamos no processamento de produtos não padrão.,O objectivo é ser uma empresa líder em matéria de alta tecnologia optoelectrónica.
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