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Forquilha de cerâmica SiC feita sob encomenda Componente estrutural de precisão Manivela Wafers Componente óptico
Detalhes do produto:
| Lugar de origem: | China |
| Marca: | ZMSH |
Condições de Pagamento e Envio:
| Quantidade de ordem mínima: | 1 |
|---|---|
| Preço: | case by case |
| Detalhes da embalagem: | plástico espumado+cartão |
| Tempo de entrega: | 4 semanas |
| Termos de pagamento: | T/T |
| Habilidade da fonte: | 1pcs/month |
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Informação detalhada |
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| Alta dureza: | Com uma dureza Mohs de até 9,3 | Baixo Coeficiente de Expansão Térmica: | Tipicamente em torno de 4,0 × 10⁻⁶ /K |
|---|---|---|---|
| Condutibilidade térmica excelente: | Condutividade térmica de 120 ̊180 W/m·K | Baixa densidade: | Em cerca de 3,1 g/cm3 |
| Destacar: | garfo de cerâmica SiC feito sob medida,Orifícios de manobras de cerâmica SIC,Componente estrutural de precisão em cerâmica SiC |
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Descrição de produto
Garfo cerâmico SiC componente estrutural de precisão feito sob medida, manuseio de wafers, componente óptico
Resumo de Garfo cerâmico SiC
O Braço de Garfo de Cerâmica SiC é um componente estrutural feito de silício avançado
material cerâmico de carboneto. É usado principalmente em equipamentos de precisão que exigem alta rigidez, baixo coeficiente de expansão térmica e alta resistência ao desgaste. A forma de "braço de garfo" é comumente encontrada em dispositivos ópticos de alta qualidade, equipamentos de processamento de semicondutores e sistemas de manuseio automatizados, servindo como elemento de suporte, posicionamento, transmissão ou fixação. Em comparação com os materiais metálicos tradicionais, a cerâmica de carboneto de silício oferece vantagens significativas em desempenho mecânico, estabilidade térmica e resistência à corrosão, e gradualmente se tornou um componente funcional chave na fabricação moderna de alta precisão.
Tabela de atributos de Garfo cerâmico SiC
| Propriedade | Valor típico | Unidade | Observações |
| Material | Carboneto de Silício Sinterizado (SSiC) | – | Grau de alta pureza e alta densidade |
| Densidade | 3,10 – 3,15 | g/cm³ | |
| Dureza | ≥ 2200 | HV0.5 (Vickers) | Uma das cerâmicas de engenharia mais duras |
| Resistência à flexão | ≥ 400 | MPa | Teste de flexão em 4 pontos |
| Resistência à compressão | ≥ 2000 | MPa | |
| Módulo de Young | 400 – 450 | GPa | Rigidez ultra-alta |
| Condutividade térmica | 120 – 180 | W/(m·K) | Excelente para dissipação de calor |
| Coeficiente de expansão térmica | ~4,0 × 10⁻⁶ | /K (25–1000 °C) | Muito baixo; ideal para estabilidade térmica |
| Temperatura máxima de operação | 1400 – 1600 | °C | No ar; mais alta em atmosfera inerte |
| Resistividade elétrica | > 10¹⁴ | Ω·cm | Cerâmica isolante |
| Resistência química | Excelente | – | Resistente a ácidos, álcalis e solventes |
| Rugosidade da superfície (após polimento) | < 0,02 | μm Ra | Opcional para superfícies de contato |
| Compatibilidade com sala limpa | Classe 10 – 1000 | – | Adequado para uso em semicondutores e ótica |
Projeto e Fabricação de Braços de Garfo de Cerâmica SiC
Projeto estrutural
Os braços de garfo SiC são projetados sob medida de acordo com os requisitos da aplicação. As formas comuns incluem braços em "U" ou "T" usados para:
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Manuseio de wafers
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Posicionamento de cartão de sonda
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Suporte de módulo óptico
Considerações chave no projeto incluem:
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Capacidade de carga e distribuição de tensão
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Compensação de tensão térmica
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Interfaces de montagem de precisão
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Compatibilidade com sala limpa
Técnicas de processamento
O processo de fabricação envolve várias etapas críticas:
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Preparação do pó
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Formação (prensagem a seco, prensagem isostática ou fundição)
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Sinterização (por exemplo, sinterização sem pressão, ligação por reação)
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Usinagem (retificação, perfuração a laser, EDM)
-
Acabamento da superfície (polimento, revestimento, marcação a laser)
Diagrama de fluxo do processo para preparação de componentes cerâmicos SiC
Cenários de aplicação de Garfo cerâmico SiC
Equipamentos de semicondutores
Os braços de garfo de cerâmica SiC são comumente usados em sistemas de manuseio de wafers para processos como fotolitografia, gravação e embalagem. As vantagens incluem:
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Superfície não contaminante
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Resistência a altas temperaturas
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Excelente durabilidade química
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Compatibilidade com salas limpas Classe 10–1000
Usado em:
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Portas de carregamento EFEM e FOUP
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Transporte de wafers de 6", 8" e 12"
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Sistemas de pick-and-place a vácuo
Sistemas Ópticos e Telescópios
Em instrumentos ópticos de alta precisão, os braços de garfo SiC fornecem:
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Suporte rígido para espelhos e lentes
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Alinhamento estável sob variações térmicas
-
Estruturas leves para posicionamento dinâmico
Eles são frequentemente usados em:
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Interferômetros
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Telescópios espaciais
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Sistemas de varredura a laser
Aeroespacial e Defesa de de Garfo cerâmico SiC
Em sistemas aeroespaciais, os braços de garfo SiC são valorizados por
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Leveza e rigidez sob vibração
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Resistência à radiação e choque térmico
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Estabilidade estrutural em condições de órbita terrestre baixa
Os papéis típicos incluem suportes de carga útil, ligações cardan e montagens ópticas.
Sistemas Robóticos e de Automação
Em ambientes de automação de sala limpa, os braços de garfo SiC são usados como efetores finais ou pinças, oferecendo:
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Superfícies não condutoras e não geradoras de partículas
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Longa vida útil em ambientes abrasivos ou corrosivos
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Resistência à liberação de gases em câmaras de vácuo
Personalização e Suporte Técnico
Como um componente de precisão não padronizado, os braços de garfo de cerâmica SiC são tipicamente personalizados com base nos requisitos do usuário. Os parâmetros personalizáveis incluem:
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Dimensões gerais (comprimento, largura, espessura)
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Tamanho e ângulo da abertura
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Acabamento e rugosidade da superfície
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Chanfros, furos, ranhuras
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Compatibilidade com wafers (6", 8", 12")
Apoiamos serviços de ciclo completo, incluindo revisão de desenhos, simulação FEM para comportamento mecânico e verificação de protótipos para garantir desempenho e compatibilidade.
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